ဖြစ်ထွန်းသည်။
ထိုးထွင်းသိမြင်မှုများရရှိပြီး ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုလုပ်ငန်းစဉ်ကို အရှိန်မြှင့်ပါ။
Advanced Energy သည် အရေးပါသော ပါးလွှာသော ဖလင်စုဆောင်းခြင်းဆိုင်ရာ အပလီကေးရှင်းများနှင့် စက်ပစ္စည်း ဂျီသြမေတြီများအတွက် ပါဝါထောက်ပံ့မှုနှင့် ထိန်းချုပ်မှုဖြေရှင်းချက်များကို ပေးဆောင်သည်။wafer လုပ်ဆောင်ခြင်းဆိုင်ရာ စိန်ခေါ်မှုများကို ဖြေရှင်းရန်၊ ကျွန်ုပ်တို့၏ တိကျသော ပါဝါပြောင်းလဲခြင်းဆိုင်ရာ ဖြေရှင်းချက်များသည် သင့်အား ပါဝါတိကျမှု၊ တိကျမှု၊ မြန်နှုန်းနှင့် လုပ်ငန်းစဉ် ထပ်တလဲလဲဖြစ်နိုင်မှုကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်နိုင်မည်ဖြစ်သည်။
ကျွန်ုပ်တို့သည် ကျယ်ပြန့်သော RF ကြိမ်နှုန်းများ၊ DC ပါဝါစနစ်များ၊ စိတ်ကြိုက်ပါဝါထွက်ရှိမှုအဆင့်များ၊ ကိုက်ညီသောနည်းပညာများနှင့် ဖိုက်ဘာအော့ပတစ် အပူချိန်စောင့်ကြည့်ခြင်းဆိုင်ရာ ဖြေရှင်းချက်များအား သင့်အား လုပ်ငန်းစဉ်ပလာစမာကို အမှန်တကယ်ထိန်းချုပ်နိုင်စေမည့် ကျယ်ပြန့်သောအကွာအဝေးကို ပေးဆောင်ထားပါသည်။လုပ်ငန်းစဉ်ကို ထိုးထွင်းသိမြင်ပြီး ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုလုပ်ငန်းစဉ်ကို အရှိန်အဟုန်မြှင့်တင်ရန်အတွက် ကျွန်ုပ်တို့သည် Fast DAQ™ နှင့် ကျွန်ုပ်တို့၏ဒေတာရယူမှုနှင့် အသုံးပြုနိုင်မှုအစုံကို ပေါင်းစပ်ထားပါသည်။
သင့်လိုအပ်ချက်များနှင့်ကိုက်ညီသော ဖြေရှင်းချက်ကိုရှာဖွေရန် ကျွန်ုပ်တို့၏တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်သည့်လုပ်ငန်းစဉ်များအကြောင်း ပိုမိုလေ့လာပါ။
သင်၏စိန်ခေါ်မှု
ပေါင်းစပ်ပတ်လမ်းအတိုင်းအတာများကို ပုံစံချရန်အသုံးပြုသည့် ရုပ်ရှင်များမှသည် လျှပ်ကူးမှုနှင့် လျှပ်ကာပစ္စည်းများ (လျှပ်စစ်ဓာတ်တည်ဆောက်ပုံများ)၊ သတ္တုရုပ်ရှင်များ (အပြန်အလှန်ချိတ်ဆက်မှုအထိ)၊ သင်၏ အပ်နှံမှုလုပ်ငန်းစဉ်များသည် အက်တမ်အဆင့်ထိန်းချုပ်မှု လိုအပ်သည် — အင်္ဂါရပ်တစ်ခုစီအတွက်သာမက wafer တစ်ခုလုံးအတွက်ပါ လိုအပ်ပါသည်။
ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံအပြင်၊ သင်၏အပ်နှံထားသောရုပ်ရှင်များသည် အရည်အသွေးမြင့်ရပါမည်။၎င်းတို့အလိုရှိသော စပါးဖွဲ့စည်းပုံ၊ ညီညီညာညာ၊ အထူအပါးတို့ကို ပိုင်ဆိုင်ရန် လိုအပ်ပြီး ၎င်းသည် လိုအပ်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဖိစီးမှုများ (ဖိသိပ်မှုနှင့် ဆန့်နိုင်အား) နှင့် လျှပ်စစ်ဂုဏ်သတ္တိများကို ပေးဆောင်ခြင်းအပြင်၊
ရှုပ်ထွေးမှုများသာ ဆက်လက်တိုးလာနေသည်။lithography ကန့်သတ်ချက်များ (sub-1X nm nodes) ကိုဖြေရှင်းရန်၊ ကိုယ်တိုင်ချိန်ညှိထားသော နှစ်ချက်နှင့် လေးပုံတစ်ပုံပုံစံပြုလုပ်ခြင်းနည်းပညာများသည် wafer တစ်ခုစီရှိ ပုံစံကိုထုတ်လုပ်ရန်နှင့် မျိုးပွားရန်အတွက် သင်၏အပ်နှံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်လိုအပ်ပါသည်။
ကျွန်ုပ်တို့၏ဖြေရှင်းချက်
အရေးကြီးဆုံးသော အစစ်ခံအပ်ပလီကေးရှင်းများနှင့် စက်ပစ္စည်းဂျီသြမေတြီများကို သင်အသုံးပြုသောအခါ၊ ယုံကြည်စိတ်ချရသော စျေးကွက်ခေါင်းဆောင်တစ်ဦး လိုအပ်ပါသည်။
Advanced Energy ၏ RF ပါဝါပေးပို့မှုနှင့် မြန်နှုန်းမြင့်ကိုက်ညီသောနည်းပညာသည် အဆင့်မြင့် PECVD နှင့် PEALD အပ်နှံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အားလုံးအတွက် လိုအပ်သော ပါဝါတိကျမှု၊ တိကျမှု၊ မြန်နှုန်းနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်များ ထပ်တလဲလဲဖြစ်နိုင်မှုကို စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်စေပါသည်။
သင်၏ configurable arc တုံ့ပြန်မှု၊ ပါဝါတိကျမှု၊ မြန်နှုန်း၊ နှင့် လိုအပ်သော PVD (sputtering) နှင့် ECD စုဆောင်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များကို ကောင်းစွာချိန်ညှိရန် ကျွန်ုပ်တို့၏ DC ဂျင်နရေတာနည်းပညာကို အသုံးပြုပါ။
အကျိုးကျေးဇူးများ
● ပိုမိုကောင်းမွန်သော ပလာစမာတည်ငြိမ်မှုနှင့် လုပ်ငန်းစဉ် ထပ်တလဲလဲဖြစ်နိုင်မှုသည် အထွက်နှုန်းကို တိုးစေသည်။
● ဒစ်ဂျစ်တယ်ထိန်းချုပ်မှုအပြည့်ဖြင့် တိကျသော RF နှင့် DC ပေးပို့မှုသည် လုပ်ငန်းစဉ်ထိရောက်မှုကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် ကူညီပေးသည်။
● ပလာစမာပြောင်းလဲမှုများနှင့် arc စီမံခန့်ခွဲမှုအတွက် မြန်ဆန်သောတုံ့ပြန်မှု
● လိုက်လျောညီထွေရှိသော ကြိမ်နှုန်းချိန်ညှိမှုဖြင့် အဆင့်ပေါင်းများစွာ တွန်းထုတ်ခြင်းသည် etch rate ရွေးချယ်မှုကို တိုးတက်စေသည်။
● အမြင့်ဆုံးအချိန်နှင့် ထုတ်ကုန်စွမ်းဆောင်ရည်ကို သေချာစေရန်အတွက် ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ ပံ့ပိုးမှုရရှိနိုင်သည်။